构成侵犯专利权的条件有哪些?

构成专利侵权行为的要件包括两个方面：形式条件和实质条件。

其中，形式要专利侵权及其法律责任件主要有：

1)实施行为所涉及的是一项有效的中国专利;

2)实施行为必须是未经专利权人许可或者授权的;

3)实施行为必须是以生产经营为目的。对于行为人是否具有主观故意并不是形式要件。但是，可以作为衡量其情节轻重的依据。

构成专利侵权的实质要件，也就是技术条件，实质实施行为是否属于专利的保护范围。如果行为人所涉及的技术特征属于专利权的保护范围，那么该行为人就构成了专利侵权。主要有以下几种表现形式：1)行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征全部相同，则构成侵权;2)行为人所涉及的技术特征多于专利的技术特征，也构成侵权;3)行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征有相同的，有相异的，但是，相异的技术特征与专利的技术特征是等效的，仍构成侵权;否则，不构成侵权。这里技术特征等效，是指所属技术领域的普通技术人员你那能够推断出某两种技术特征彼此替换后，所产生的效果相同。

专利侵权行为分为直接侵权行为和间接侵权行为两类。

直接侵权行为。这是指直接由行为人实施的侵犯他人专利权的行为。其表现形式包括：制造发明、实用新型、外观设计专利产品的行为;使用发明、实用新型专利产品的行为;许诺销售发明、实用新型专利产品的行为;销售发明、实用新型或外观设计专利产品的行为;进口发明、实用新型、外观设计专利产品的行为;

使用专利方法以及使用、许诺销售、销售、进口依照该专利方法直接获得的产品的行为;

间接侵权行为。这是指行为人本身的行为并不直接构成对专利权的侵害，但实施了诱导、怂恿、教唆、帮助他人侵害专利权的行为。间接侵权行为通常是为直接侵权行为制造条件，常见的表现形式有：行为人销售专利产品的零部件、专门用于实施专利产品的模具或者用于实施专利方法的机械设备;行为人未经专利权人授权或者委托，擅自转让其专利技术的行为等。